Nuevas estrategias para la fabricación de contactos eléctricos con el uso de haces de electrones e iones focalizados

Salvador Porroche, Alba
Cea Mingueza, Pilar (dir.) ; De Teresa Nogueras, José María (dir.)

Universidad de Zaragoza, 2024


Resumen: Los haces de electrones e iones focalizados pueden ser utilizados para inducir la descomposición de moléculas organometálicas y con ello la fabricación de estructuras funcionales. Particularmente, en esta tesis doctoral se consiguen excelentes propiedades eléctricas en depósitos de Co y Pd a través de dos nuevas estrategias que se basan en la irradiación y descomposición de un condensado. En el caso de los depósitos de Co, este condensado se forma a bajas temperaturas mediante la técnica de Cryo-FIBID mientras que, para los depósitos de Pd, se utiliza como condensado una película organometálica que se fabrica previamente por la técnica de spin-coating.
Por un lado, la optimización del proceso de fabricación de depósitos de Co por la técnica de Cryo-FIBID permite obtener estructuras con una resistividad eléctrica de 200 µOhm·cm. Estos valores se logran utilizando dosis de irradiación tan bajas como 15 µC/cm2, de manera que el proceso de irradiación en condiciones criogénicas es mil veces más rápido que el proceso llevado a cabo a temperatura ambiente. El hecho de utilizar dosis de irradiación tan bajas y, además, utilizar un condensado que pueda actuar de capa protectora nos motiva a utilizar estos depósitos de Co como contactos eléctricos en muestras sensibles al bombardeo de partículas cargadas, como pueden ser los electrones o los iones. Las muestras que se utilizan para esta propuesta son láminas de grafeno depositado por CVD y monocapas orgánicas preparadas por autoensamblaje.
Por otro lado, la descomposición de una película organometálica de acetato de paladio con un haz de electrones focalizado da lugar a estructuras conductoras o no conductoras según la dosis de irradiación aplicada. La resistividad eléctrica más baja que se consigue en este proceso de descomposición es de 145 µOhm·cm y se obtiene tras irradiar la película organometálica con una dosis de 30000 µC/cm2. En cambio, en el caso de utilizar un haz de Ga+ focalizado se alcanza una resistividad de 70 µOhm·cm utilizando una dosis de irradiación mucho menor de 30 µC/cm2. Por todo ello, debido a la posibilidad de utilizar depósitos de Pd con propiedades aislantes y metálicas dependiendo del tipo de haz utilizado, se propone la fabricación de dispositivos de puerta electrónica con la finalidad de modular la corriente crítica de una estructura superconductora de W-C depositada por FIBID.


Resumen (otro idioma): 

Pal. clave: microscopia electrónica ; microelectrónica ; conductores metálicos ; haces de electrones

Titulación: Programa de Doctorado en Química Física
Plan(es): Plan 492

Área de conocimiento: Ciencias
Nota: Presentado: 07 03 2024
Nota: Tesis-Univ. Zaragoza, , 2024






Aportación del TFG/M a la Sostenibilidad: Desarrollar infraestructuras resilientes, promover la industrialización inclusiva y sostenible, y fomentar la innovación.


Fecha de embargo : 2026-03-07



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 Registro creado el 2024-06-21, última modificación el 2024-06-21


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