Growth and structural characterization of strained epitaxial Hf0.5Zr0.5O2 thin films

Torrejón, Luis ; Langenberg, Eric ; Magén, César (Universidad de Zaragoza) ; Larrea, Ángel (Universidad de Zaragoza) ; Blasco, Javier (Universidad de Zaragoza) ; Santiso, José ; Algarabel, Pedro A. (Universidad de Zaragoza) ; Pardo, José Ángel (Universidad de Zaragoza)
Growth and structural characterization of strained epitaxial Hf0.5Zr0.5O2 thin films
Resumen: Ferroelectricity was recently reported in thin films with several compositions in the HfO2-ZrO2 system with orthorhombic crystal structure. In the present paper we study the growth by pulsed laser deposition and the structural characterization of strained epitaxial Hf0.5 Zr0.5 O2 films on (001)-oriented yttria-stabilized zirconia (YSZ) substrates. We have determined the conditions for the coherent growth and correlated the deposition parameters with the films structure and microstructure studied through a combination of x-ray diffraction, electron backscatter diffraction, and scanning transmission electron microscopy. In the range of experimental parameters explored, all the films show monoclinic structure with distorted lattice parameters relative to bulk.
Idioma: Inglés
DOI: 10.1103/PhysRevMaterials.2.013401
Año: 2018
Publicado en: Physical Review Materials 2, 1 (2018), 013401 [7 pp.]
ISSN: 2475-9953

Financiación: info:eu-repo/grantAgreement/ES/MINECO/MAT2014-51982-C2
Financiación: info:eu-repo/grantAgreement/ES/MINECO/MAT2015-68760-C2-1-P
Financiación: info:eu-repo/grantAgreement/ES/MINECO/MAT2017-82970-C2
Tipo y forma: Artículo (Versión definitiva)
Área (Departamento): Área Física Materia Condensada (Dpto. Física Materia Condensa.)
Área (Departamento): Área Cienc.Mater. Ingen.Metal. (Dpto. Ciencia Tecnol.Mater.Fl.)


Derechos Reservados Derechos reservados por el editor de la revista


Exportado de SIDERAL (2019-01-11-13:01:16)

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 Registro creado el 2019-01-11, última modificación el 2019-01-11


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