000135857 001__ 135857
000135857 005__ 20240621102116.0
000135857 037__ $$aTESIS-2024-261
000135857 041__ $$aspa
000135857 1001_ $$aSalvador Porroche, Alba
000135857 24500 $$aNuevas estrategias para la fabricación de contactos eléctricos con el uso de haces de electrones e iones focalizados
000135857 260__ $$aZaragoza$$bUniversidad de Zaragoza, Prensas de la Universidad$$c2024
000135857 300__ $$a246
000135857 4900_ $$aTesis de la Universidad de Zaragoza$$v2024-253$$x2254-7606
000135857 500__ $$aPresentado: 07 03 2024
000135857 502__ $$aTesis-Univ. Zaragoza, , 2024$$bZaragoza, Universidad de Zaragoza$$c2024
000135857 506__ $$aby-nc$$bCreative Commons$$c3.0$$uhttp://creativecommons.org/licenses/by-nc/3.0/es
000135857 520__ $$aLos haces de electrones e iones focalizados pueden ser utilizados para inducir la descomposición de moléculas organometálicas y con ello la fabricación de estructuras funcionales. Particularmente, en esta tesis doctoral se consiguen excelentes propiedades eléctricas en depósitos de Co y Pd a través de dos nuevas estrategias que se basan en la irradiación y descomposición de un condensado. En el caso de los depósitos de Co, este condensado se forma a bajas temperaturas mediante la técnica de Cryo-FIBID mientras que, para los depósitos de Pd, se utiliza como condensado una película organometálica que se fabrica previamente por la técnica de spin-coating. <br />Por un lado, la optimización del proceso de fabricación de depósitos de Co por la técnica de Cryo-FIBID permite obtener estructuras con una resistividad eléctrica de 200 µOhm·cm. Estos valores se logran utilizando dosis de irradiación tan bajas como 15 µC/cm2, de manera que el proceso de irradiación en condiciones criogénicas es mil veces más rápido que el proceso llevado a cabo a temperatura ambiente. El hecho de utilizar dosis de irradiación tan bajas y, además, utilizar un condensado que pueda actuar de capa protectora nos motiva a utilizar estos depósitos de Co como contactos eléctricos en muestras sensibles al bombardeo de partículas cargadas, como pueden ser los electrones o los iones. Las muestras que se utilizan para esta propuesta son láminas de grafeno depositado por CVD y monocapas orgánicas preparadas por autoensamblaje. <br />Por otro lado, la descomposición de una película organometálica de acetato de paladio con un haz de electrones focalizado da lugar a estructuras conductoras o no conductoras según la dosis de irradiación aplicada. La resistividad eléctrica más baja que se consigue en este proceso de descomposición es de 145 µOhm·cm y se obtiene tras irradiar la película organometálica con una dosis de 30000 µC/cm2. En cambio, en el caso de utilizar un haz de Ga+ focalizado se alcanza una resistividad de 70 µOhm·cm utilizando una dosis de irradiación mucho menor de 30 µC/cm2. Por todo ello, debido a la posibilidad de utilizar depósitos de Pd con propiedades aislantes y metálicas dependiendo del tipo de haz utilizado, se propone la fabricación de dispositivos de puerta electrónica con la finalidad de modular la corriente crítica de una estructura superconductora de W-C depositada por FIBID. <br />
000135857 520__ $$a<br />
000135857 521__ $$97080$$aPrograma de Doctorado en Química Física
000135857 540__ $$9info:eu-repo/semantics/embargoedAccess
000135857 6531_ $$amicroscopia electrónica
000135857 6531_ $$amicroelectrónica
000135857 6531_ $$aconductores metálicos
000135857 6531_ $$ahaces de electrones
000135857 691__ $$a9
000135857 692__ $$aDesarrollar infraestructuras resilientes, promover la industrialización inclusiva y sostenible, y fomentar la innovación.
000135857 700__ $$aCea Mingueza, Pilar $$edir.
000135857 700__ $$aDe Teresa Nogueras, José María $$edir.
000135857 7102_ $$aUniversidad de Zaragoza$$b
000135857 830__ $$9492
000135857 8560_ $$fcdeurop@unizar.es
000135857 8564_ $$s14055045$$uhttps://zaguan.unizar.es/record/135857/files/TESIS-2024-261.pdf$$zinfo:eu-repo/date/embargoEnd/2026-03-07
000135857 909CO $$ooai:zaguan.unizar.es:135857$$pdriver
000135857 909co $$ptesis
000135857 9102_ $$aCiencias$$b
000135857 980__ $$aTESIS