GDOC-2013-2799

2. Preparación de materiales nanoestructurados - [66101]


Curso: 2013-2014

Universidad de Zaragoza, Zaragoza

Titulación: Máster Universitario en Materiales Nanoestructurados para Aplicaciones Nanotecnológicas

Idioma: Español

Profesor(es): Morellón Alquézar, Luis Alberto ; Pardo Gracia, José Angel ; Cea Mingueza, Pilar ; Gracia Lostao, Ana Isabel ; De Teresa Nogueras, José María ; Martín Solans, Santiago ; Lucas del Pozo, Irene

Resumen:          En esta asignatura se presentarán los dos tipos de aproximaciones empleadas para la fabricación de materiales nanoestructurados, es decir, los métodos de arriba abajo (o top-down) que consisten en “esculpir” un material macro o micro hasta alcanzar las dimensiones nanoscópicas, y los métodos de abajo a arriba (o bottom-up) en los que los átomos y las moléculas son manipulados a modo de “ladrillos” para construir un edificio molecular nanoscópico. Los contenidos de esta asignatura son:        Presentación de los métodos de preparación de materiales nanoestructurales: aproximación descendente (“top-down”) y ascendente (“bottom-up”). Métodos de preparación de películas delgadas, mono y multicapas moleculares: depósito químico en fase vapor (CVD), depósito físico en fase vapor (PVD), depósito en fase líquida (“cast films”, “spin coating”, “spray coating”, “ink printing”, “dip-coating”, “layer-by-layer”, Langmuir-Blodgett, epitaxia en fase líquida,  electrodeposición, etc.), depósito en fase sólida (“powder deposition”, “screen printing”). Litografía óptica. Litografía por haces de electrones. Litografía por haces de iones. Litografía mediante sonda local. Litografía mediante nanoimpresión. Las clases teóricas serán complentadas por la realización de cuatro sesiones prácticas que incluyen:        1.- Técnicas de deposición en fase líquida        2.- Litografía Óptica        3.- PLD Sputtering        4.- Nanolab

Abstract: The two types of approach used for the production of nanostructured materials are presented in this subject, i.e. the "top-down" method which consists of "sculpting" a macro or micro material until obtaining the nanoscopic dimensions required, and the "bottom-up" method in which the atoms and molecules are moved like "bricks" to create a nanoscopic molecular building. A brief description of the contents of this subject includes: Presentation of the nanostructured materials preparation methods: "top-down" and "bottom-up" approaches. Preparation methods for thin film, single and multi-layer molecules: chemical vapour deposition (CVD), physical vapour deposition (PVD), liquid phase deposition (“cast films”, “spin coating”, “spray coating”, “ink printing”, “dip-coating”, “layer-by-layer”, Langmuir-Blodgett, liquid phase epitaxy, electroplating, etc.), solid phase deposition (“powder deposition”, “screen printing”). Optical lithography. Electron beam lithography. Ion beam lithography. Evanescent wave lithography. Nanoimprint lithography. The lectures are complemented by four practical sessions including: 1.- Liquid phase deposition techniques 2.- Optical lithography 3.- PLD Sputtering 4.- Nanolab

Creative Commons You must give appropriate credit, provide a link to the license, and indicate if changes were made. You may do so in any reasonable manner, but not in any way that suggests the licensor endorses you or your use. You may not use the material for commercial purposes. If you remix, transform, or build upon the material, you must distribute your contributions under the same license as the original.



Este registro pertenece a las colecciones:
Academic resources > Academic guides > guias-docentes-ciencias > masteres-ciencias > master-materiales-nanoestructurados-aplicaciones-nanotecnologicas
Academic resources > Academic guides > Guías docentes: Curso 2013-2014



Back to search

Guide (english):
Download fulltextPDF
Guía (idioma español):
Download fulltextPDF
Rate this document:

Rate this document:
1
2
3
 
(Not yet reviewed)