GDOC-2011-1609

2. Preparación de materiales nanoestructurados - [66101]


Curso: 2011-2012

Universidad de Zaragoza, Zaragoza

Titulación: Máster Universitario en Materiales Nanoestructurados para Aplicaciones Nanotecnológicas

Idioma: Español

Profesor(es): Morellón Alquézar, Luis Alberto ; Gascón Sabaté, Ignacio ; Pardo Gracia, José Angel ; Cea Mingueza, Pilar ; Gracia Lostao, Ana Isabel ; De Teresa Nogueras, José María ; López Montanya, María del Carmen ; Martín Solans, Santiago ; Pera Seijo, Gorka

Resumen:          En esta asignatura se presentarán los dos tipos de aproximaciones empleadas para la fabricación de materiales nanoestructurados, es decir, los métodos de arriba abajo (o top-down) que consisten en “esculpir” un material macro o micro hasta alcanzar las dimensiones nanoscópicas, y los métodos de abajo a arriba (o bottom-up) en los que los átomos y las moléculas son manipulados a modo de “ladrillos” para construir un edificio molecular nanoscópico. Una breve descripción de los contenidos de esta asignatura incluye:        Presentación de los métodos de preparación de materiales nanoestructurales: aproximación descendente (“top-down”) y ascendente (“bottom-up”). Métodos de preparación de películas delgadas, mono y multicapas moleculares: depósito químico en fase vapor (CVD), depósito físico en fase vapor (PVD), depósito en fase líquida (“cast films”, “spin coating”, “spray coating”, “ink printing”, “dip-coating”, “layer-by-layer”, Langmuir-Blodgett, epitaxia en fase líquida,  electrodeposición, etc.), depósito en fase sólida (“powder deposition”, “screen printing”). Litografía óptica. Litografía por haces de electrones. Litografía por haces de iones. Litografía mediante sonda local. Litografía mediante nanoimpresión. Las clases teóricas serán complentadas por la realización de cuatro sesiones prácticas que incluyen:        1.- Técnicas de deposición en fase líquida        2.- Litografía Óptica        3.- PLD Sputtering        4.- Nanolab

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